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            摘要近日,國家標準計劃《光學和光子學 微透鏡陣列 第3部分:光學特性測試方法》編制完成并征求意見,截止時間為2023年8月19日。

              【儀表網 行業(yè)標準】近日,國家標準計劃《光學和光子學 微透鏡陣列 第3部分:光學特性測試方法》編制完成并征求意見,截止時間為2023年8月19日。主要起草單位有中科院重慶綠色智能技術研究院 、中國科學院光電技術研究所 、中科院大連化學物理研究所 、中國兵器工業(yè)標準化研究所 、電子科技大學等。
             
              ISO14880系列標準規(guī)定的微透鏡陣列產品,指的是由在公共基片的一個或多個表面內或表面上形成的非常小的透鏡陣列,其主要應用于三維顯示器、陣列光輻射源和光電探測器相關聯的耦合光學器件、用于液晶顯示器的增強型光學器件及光學并行處理元器件。
             
              這一部分標準的編制目的是在第一批微透鏡產品進入市場之際,明確微透鏡陣列這一相對較新領域的術語。其他三個部分為:第2部分:波前像差測試方法;第3部分:除波前像差外的光學特性測試方法和第4部分:幾何特性測試方法。本部分的規(guī)定的微透鏡陣列的光學特性測試方法。
             
              微透鏡陣列市場迫切需要就微透鏡陣列本身的光學特性測試方法達成一致。標準中關于光學特性的測試方法不僅有利于促進微透鏡陣列產品的研制生產,還有助于科研工作和行業(yè)從業(yè)者在共同理解的基礎上交流概念。
             
              目前,國內在微透鏡陣列方面無國家標準。
             
              本標準中的微透鏡陣列指的是在同一基片的內部或表面微透鏡陣列。
             
              第1-2章分別規(guī)定了本標準的范圍、規(guī)范性引用文件;
             
              第3章術語中,規(guī)定了微透鏡及微透鏡陣列的術語。
             
              第4章測試項目,規(guī)定了微透鏡陣列光學特性的基板測試
             
              第5章測量方法,該章節(jié)的主要內容,包括測量原理、測量方法選擇、測量設備、測量程序,以及重點測量參數(有效前后焦距,色差、焦點均勻性等)
             
              第6章結果和不確定度,該章節(jié)的主要內容,規(guī)定不確定度的評估方法
             
              第7章耦合效率及成像質量,該章節(jié)的主要內容,規(guī)定了耦合效率和成像質量的測量方法
             
              第8章測試報告,該章節(jié)的主要內容,規(guī)定了記錄的內容
             
              附錄A表述了使用斐索干涉儀系統的測量,包括測試設備、測試過程及有效前后焦距的測量。
             
              附錄B表述了共焦法測量有效前后焦距方法,包括測試原理和設備。附錄C表述了耦合效率和成像質量
             
              附錄D表述了微透鏡陣列焦點位置均勻性的測量方法。
             

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