LDetek 工業氣相色譜：精準監測電子氣中痕量雜質

來源：珠海歐伯特測控技術有限公司 2026年01月14日 14:27

在半導體制造、LED生產、光伏產業以及平板顯示等高科技領域，電子氣體純度是決定最終產品性能和生產效率的關鍵因素。LDetek工業氣相色譜系統提供高靈敏度、高穩定性的實時在線監測解決方案，確保您的工藝氣體純凈無瑕，從而優化生產工藝并顯著提升產品質量。

MultiDetek3

電子氣體監測設計的旗艦產品

MultiDetek3 是一款受歡迎的緊湊型模塊化過程工業氣相色譜儀，具有雙進樣氣入口和在線模塊，可以同時對微量水分、氧以及微量雜質進行流分析。

MD3

產品概述

技術優勢

? MultiDetek是LDetek專為電子特氣和大宗氣體監測開發的工業級氣相色譜系統

? 模塊化設計，可同時配置多達3個獨立的檢測通道

? 適用于半導體fab、氣體供應商、特氣生產企業等多種應用場景

? 多檢測氣并行工作，一臺設備可同時監測多種氣體和雜質，兩個GCs合二為一

? 智能化自動進樣和分析，無需人工干預

? 緊湊型設計，節省寶貴的潔凈室空間;15.6英寸觸摸屏，便于查看和操作

MultiDetek 3

監測關鍵雜質類型及危害

氧氣和水分

電子氣體中常見的污染物。它們會導致半導體晶圓在高溫工藝中發生氧化反應，腐蝕敏感材料，嚴重影響薄膜生長質量、器件性能和合格率。例如，在ALD/CVD工藝中，痕量氧和水分需要嚴格控制在0.1 ppm甚至ppb以下，避免缺陷。

碳氫化合物

包括甲烷、乙烷，丙烷以及苯系物等有機雜質。這些雜質在半導體化學氣相沉積和蝕刻等工藝中，可能在晶圓表面形成碳膜殘留，導致產品電氣性能異常、短路或開路，甚至影響后續工藝的兼容性。

金屬羰基化合物

如鎳羰基、鐵羰基等，是極微量的金屬污染物。即使是ppb級的濃度，也可能在半導體制造中沉積在晶圓表面，影響金屬互連線的電阻率、可靠性，甚至導致器件失效。對這些雜質的精確控制是確保過程節點良率的關鍵。

MultiDetek 3

助力提升應用過程的效益

MultiDetek3具有0.1至1000ppb級別的低痕量雜質檢測能力，靈敏度高，可精準識別水、氧、一氧化碳、二氧化碳、甲烷、一氧化二氮，總碳氫化合物等多種關鍵雜質成分。因此可以顯著減少因氣體不純導致的晶圓報廢率。

氣體純度高至99.999999%

LDetek系統可穩定監測電子氣體純度高至8個9（99.999999%），檢測下限可達0.1ppb，確保滿足嚴苛的半導體制造要求，減少氣體不純帶來的危害。

響應時間 5分鐘

MultiDetek3系統可在5分鐘內完成一個分析循環，實現對氣體質量的快速檢測和異常預警，平均重復性精度優于±2%，有助于提升整體凈化效率。

降低成本 30%

通過精準控制氣體純度，有效減少原材料浪費和不良品率，幫助客戶實現高達30%的運用成本節約。系統正常運行時間高達99.5%，提高生產效率。

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