離子濺射儀

摘要 采用磁控型電極，限度地減輕對樣品的損壞。

摘要深圳天鉉真空技術(shù)有限公司是專業(yè)從事銷售真空泵、進(jìn)口真空泵維修、進(jìn)口真空泵配件:萊寶Leybold真空泵、普旭BUSCH真空泵、貝克Becker真空泵、里其樂/偉力Rietschie真空泵、愛德華Edwards真空泵、愛發(fā)科UVLAC真空泵、好利旺Orion真空泵、韓國...

摘要離子濺射儀（非磁控）/中西器材 型號:HFD-12庫號：M363288 查看hh注明：本型號和非磁控差不多，沒有鏈條設(shè)計(jì)的，需要把蓋拿起來放在旁邊，再放樣品 簡介： 此款小型離子濺射儀主要用于掃描電子顯微鏡樣品鍍覆導(dǎo)電膜（金膜），儀器操作簡單方便，是配合SEM 制...

摘要 Q300T D Plus大腔室雙靶離子濺射鍍膜儀

摘要 K1050X射頻等離子清潔刻蝕灰化儀

摘要 Q300T ES Plus大腔室高真空離子濺射和熱蒸發(fā)一體化鍍膜儀

摘要 Q150R ES Plus離子濺射/熱蒸發(fā)一體化鍍膜系統(tǒng)

摘要 SC7620 緊湊型離子濺射鍍膜儀

摘要CCU-010 LV_SP-010磁控離子濺射鍍膜儀，是電子顯微鏡中精細(xì)顆粒貴金屬鍍膜的理想工具。觸摸屏操控，配方可編程，保證結(jié)果可重復(fù)；具有斷電時(shí)系統(tǒng)自動(dòng)排氣功能，防止系統(tǒng)被機(jī)械泵油污染。標(biāo)配膜厚監(jiān)測裝置；主動(dòng)冷卻的濺射頭可確保鍍膜質(zhì)量并延長連續(xù)運(yùn)行時(shí)間；在對樣品進(jìn)...

摘要CCU-010 HV系列高真空鍍膜系統(tǒng)專為滿足電鏡樣品制備領(lǐng)域及材料科學(xué)薄膜應(yīng)用的要求而設(shè)計(jì)。CCU-010 HV 高真空濺射儀采用優(yōu)質(zhì)組件和智能設(shè)計(jì)，可在超高分辨率應(yīng)用中提供出色的結(jié)果。 標(biāo)配抽真空系統(tǒng)無油，含高性能渦輪泵和前級隔膜泵，均位于內(nèi)部。標(biāo)配FTM膜厚監(jiān)測...

摘要CCU-010 HV為一款結(jié)構(gòu)緊湊、全自動(dòng)型的高真空離子濺射和蒸發(fā)鍍碳一體化鍍膜儀，使用非常簡便。采用的插入式設(shè)計(jì)，通過簡單地變換鍍膜頭就可輕松配置為濺射或蒸鍍設(shè)備。在鍍膜之前和/或之后，可選進(jìn)行等離子處理。模塊化設(shè)計(jì)可輕松避免金屬和碳沉積之間的交叉污染。CCU-01...

摘要CCU-010 LV普通真空鍍膜系統(tǒng)專為SEM和EDX的常規(guī)高質(zhì)量濺射鍍膜和鍍碳而設(shè)計(jì)。它是一款結(jié)構(gòu)緊湊、全自動(dòng)型的離子濺射和/或蒸發(fā)鍍碳設(shè)備，使用非常簡便。采用的插入式設(shè)計(jì)，通過簡單地變換鍍膜頭就可輕松配置為濺射或蒸鍍設(shè)備。在鍍膜之前和/或之后，可選進(jìn)行等離子處理。...

摘要 PerkinElmer等離子體發(fā)射儀

摘要 SD-900型離子濺射儀是采用二級（DC）直流濺射原理設(shè)計(jì)而成的離子濺射鍍膜設(shè)備

摘要 韓國SAM公司離子濺射儀

摘要 COWAQ S150RTL-1自動(dòng)真空磁控離子濺射鍍膜儀

摘要 日立離子濺射儀MC1000 Ⅱ

摘要 離子濺射儀是為電鏡制樣設(shè)計(jì)的離子濺射噴金儀，實(shí)現(xiàn)離子在樣品表面濺射,形成金屬薄膜

摘要 JY-S100離子濺射儀是一款結(jié)構(gòu)緊湊的桌上小型鍍膜系統(tǒng)，特別適用于掃描電鏡成像中非導(dǎo)電樣品高質(zhì)量鍍膜

摘要天澤智能 恒溫恒濕高低溫試驗(yàn)箱 天澤智能科技發(fā)展（天津）有限責(zé)任公司的主要產(chǎn)品包括：離子鍍膜設(shè)備、高真空鍍膜設(shè)備、掃描電鏡及配件、真空應(yīng)用設(shè)備、真空獲得設(shè)備、恒溫恒濕試驗(yàn)箱、步入式恒溫恒濕試驗(yàn)室、高低溫試驗(yàn)箱、真空高低溫試驗(yàn)機(jī)、快速溫變高低溫試驗(yàn)機(jī)、冷熱沖擊試驗(yàn)箱、...

摘要天澤智能 電鏡離子濺射儀耗材Eponate 12™環(huán)氧樹脂包埋套裝是美國TedPella公司產(chǎn)品。配比與Pon812相同。其黏度為25℃時(shí)是15-21cP，比重為1.15-1.22g/ml，聚合時(shí)間：60°C下16-24小時(shí)，若使用微波處理儀...

摘要此款TZZN-1000型小型磁控離子濺射儀主要用于SEM制樣樣品鍍導(dǎo)電膜（如金膜）或材料鍍膜，儀器性能穩(wěn)定，操作簡單方便。采用磁控冷態(tài)濺射，基本不升溫，保護(hù)樣品。主要特點(diǎn):² 顯示操作面為30°斜面，充分考慮操作的便捷和視覺體驗(yàn)，方便觀察操作；&...

摘要 產(chǎn)品介紹INTRODUCTION特點(diǎn)FEATURES簡單、經(jīng)濟(jì)、可靠、外觀精美

摘要TZZN-1000C小型熱蒸發(fā)鍍碳儀注明：桌面型蒸鍍碳層，減少因樣品鍍層對X射線能量譜儀做元素分析時(shí)的能量損失，可以選擇蒸發(fā)碳繩和蒸發(fā)碳棒兩種方式。樣品倉尺寸：φ150mmX110mm蒸發(fā)面積：約Φ140mm真空度：≤4×10-2mbar 工作電壓：...

摘要 主要性能指標(biāo)：玻璃處理室：Φ100mm、高度130mm試樣臺尺寸：Φ40mm可同時(shí)放6個(gè)樣品杯金靶尺寸：Φ58mm真空系統(tǒng)：直聯(lián)旋片真空泵2L／S真空檢測：皮氏計(jì)真空保護(hù)：20Pa配有微量充氣閥調(diào)節(jié)工作真空工作室工作媒介氣體：空氣或氬氣

摘要 IXRF磁控離子濺射儀MSP-2S/MSP-Mini利用磁控電極在低電壓下對樣品濺射金屬靶材，為SEM樣品表面噴鍍金屬鍍層，方便電鏡觀察，而MSP-mini是一款體積小巧，操作簡便，無需通入特殊氣體，使用時(shí)只需設(shè)置噴鍍時(shí)間即可

摘要 VTC-16-3HD是一款緊湊型CE認(rèn)證的等離子薄膜濺射儀，基片尺寸2英寸，加熱溫度為500度和控制面板為觸摸屏模式

摘要 GSL1100X-SPC16-3等離子3靶濺射儀是一款經(jīng)過CE認(rèn)證的緊湊型等離子鍍膜機(jī)

摘要 GSL-1100X-SPC-16M是一款緊湊型的磁控等離子濺射儀，采用雙旋片機(jī)械泵進(jìn)行抽真空

摘要 產(chǎn)品說明：本儀器主要用于掃描電子顯微鏡樣品鍍覆導(dǎo)電膜（金膜），儀器操作簡單方便，是配合中小型掃描電子顯微鏡制樣的儀器

摘要 VTC-16-3HD是一款緊湊型CE認(rèn)證的等離子薄膜濺射儀(直流普通型)，基片尺寸2英寸，加熱溫度為500度和控制面板為觸摸屏模式

摘要 VTC-16-D是一款小型直流磁控等離子濺射鍍膜儀，其靶頭尺寸為2英寸，并且樣品臺的高度可以調(diào)節(jié)

摘要 GSL-1100X-SPC-16單靶等離子濺射儀是一款緊湊型的等離子濺射儀，可進(jìn)行金、鉑、銦、銀等多種金屬的濺射鍍膜，樣品直徑可達(dá)50mm，鍍膜厚度可達(dá)300?，特別適用于SEM樣品的鍍膜

摘要 描述全自動(dòng)操作，簡單易用，非常適用鎢燈絲、臺式掃描電鏡等濺射電流自動(dòng)調(diào)整設(shè)定濺射電流后，系統(tǒng)自動(dòng)調(diào)節(jié)真空度，從而達(dá)到設(shè)定的濺射電流，調(diào)整時(shí)間＜5s，波動(dòng)范圍＜5%；無需按實(shí)驗(yàn)鍵調(diào)整濺射電流、無需操作進(jìn)氣閥

摘要 描述基本無溫升、樣品表面無熱損失GVC-2000制樣效果圖其他制樣設(shè)備效果圖上面兩張圖片為濾膜類樣品的電鏡圖片

摘要 電鏡支持膜超薄微柵碳膜是在一多孔碳膜上增加了一層更薄的碳膜（一般為3-5nm左右），沒有方華膜背底，是純碳膜

摘要天澤智能 標(biāo)準(zhǔn)離子濺射鍍膜儀 自動(dòng)控制主要應(yīng)用：適用于掃描電子顯微鏡樣品鍍覆導(dǎo)電膜（金膜、鉑金、銀、鎳、銅等），儀器操作簡單方便，是配合各類型掃描電子顯微鏡制樣儀器。是制備低維度，小尺寸納米材料器件實(shí)驗(yàn)手段，廣泛應(yīng)用于集成電路，光子晶體，低維半導(dǎo)體、微生物、超微膜...

摘要TZZN-1000磁控離子鍍膜儀 離子濺射儀主要應(yīng)用：適用于掃描電子顯微鏡樣品鍍覆導(dǎo)電膜（金膜、鉑金、銀、鎳、銅等），儀器操作簡單方便，是配合各類型掃描電子顯微鏡制樣的儀器。是制備低維度，小尺寸納米材料器件實(shí)驗(yàn)手段，廣泛應(yīng)用于集成電路，光子晶體，低維半導(dǎo)體、微生物、超...

摘要 一款緊湊型的等離子濺射儀，可進(jìn)行金、鉑、銦、銀等多種金屬的濺射鍍膜，樣品直徑可達(dá)50mm，鍍膜厚度可達(dá)300?，特別適用于SEM樣品的鍍膜。

摘要GVC-1000直流離子濺射儀 在結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)及人機(jī)界面方面更加注重人性，簡單智能； 對于SEM樣品常規(guī)適用黃金濺射； 能夠極為有效的提供樣品的導(dǎo)電性及導(dǎo)熱性； 減少等離子體對樣品的熱影響和離子轟擊損傷，顯著提供掃描電...

摘要 GVC-2000磁控離子濺射儀 全自動(dòng)控制，無需調(diào)整針閥鍍膜顆粒小，無熱損傷靶材更換非常簡單特殊密封結(jié)構(gòu)，玻璃不易損壞內(nèi)置操作向?qū)В瑹o需培訓(xùn)即可熟練操作

摘要 108是一款結(jié)構(gòu)緊湊的桌上型鍍膜系統(tǒng)，特別適用于掃描電鏡成像中非導(dǎo)電樣品高質(zhì)量鍍膜

摘要 應(yīng)用于掃描電子顯微鏡（SEM)樣品噴鍍的離子濺射儀/噴碳儀與普通電源、真空控制基座組成一個(gè)有機(jī)的整體·濺射儀（噴金儀）和噴碳儀合二為一，提高了整機(jī)的性價(jià)比！·操作便利的長形工作臺有效地節(jié)省了空間

摘要 SP-010濺射模塊主要配置與CUU-010HV高真空離子濺射儀所進(jìn)行使用，此款模塊結(jié)構(gòu)簡單可靠，具備在高真空下進(jìn)行高質(zhì)量濺射鍍膜需要，此模塊把磁控管、靶材、擋板、工藝壓力調(diào)節(jié)器和電源器件整合到一個(gè)的、耐用的裝置中，裝置準(zhǔn)備就緒，隨時(shí)可以運(yùn)行，并且便于維護(hù)

摘要 離子濺射儀集合了二極濺射模式之精華，并經(jīng)重新定義設(shè)計(jì)，的電流與真空度記錄曲線相結(jié)合可以進(jìn)行常規(guī)的樣品制樣，還可以滿足各種復(fù)雜特殊材料的樣品制備要求，對于高分子薄膜，地質(zhì)材料，半導(dǎo)體材料等各種樣品的制備可以輕松應(yīng)用